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株式会社AndTech

微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開　～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～

微細加工に必要なリソグラフィ技術、フォトレジスト技術の基礎から現状、今後の展望を解説する講座です。
質問OK 初～中級者向け [N]
38,500 円(税込)
販売終了
複数名でのお申込みについて
3時間0分 詳細へ
終了
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イベント概要

★2024年8月30日WEBオンライン開講。【富士フイルム・シニアエキスパート：藤森氏】微細加工に必要なリソグラフィ技術、フォトレジスト技術の基礎から現状、今後の展望を解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

　①フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクトを経験している講師がリソグラフィの歴史から基礎、今後の展望までを楽しく解説してくれます

　②微細加工リソグラフィとしてのEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィについて解説します

　③EUVプロジェクトのロードマップとして「High NA EUV」についても解説します

カリキュラム/プログラム

【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫

【時間】 13:30-16:30

【講師】富士フイルム株式会社　エレクトロニクスマテリアルズ開発センター　シニアエキスパート　藤森　亨　氏

【講演主旨】

　微細加工に必要なリソグラフィ技術、そのための材料であるフォトレジストは、長い歴史を経て、EUVリソグラフィの実現を迎えた。しかしながら、適用可能なデバイスメーカーおよび適用レイヤーが限られており、それは露光装置およびその運営コストの高さに一端がある。
　一方、ナノインプリントリソグラフィも微細加工リソグラフィとして長い間検討がなされるも困難な道のりを歩んできたが、EUVの適用困難性から、近年再び脚光をあびてきている。キヤノンの装置発表、富士フイルムの材料プレスリリースは記憶に新しい。微細加工リソグラフィとしてのEUVリソグラフィおよびナノインプリントリソグラフィに関し、時間の許す限り紹介する。　

【習得できる知識】
　①リソグラフィにおけるナノインプリントの位置づけ
　②最先端リソグラフィ用EUVレジストとナノインプリントレジストの基礎と課題

【講演キーワード】
　ナノインプリント、NIL、EUV、レジスト、リソグラフィ、微細化、ムーアの法則、ネガティブトーン現像、NTD

【講演のポイント】
　フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクト経験など、講演者はそれらの技術に直接従事もしくは議論・プロジェクト参加した経験があり具体的な課題・展望についての紹介が可能。リソグラフィの歴史における最先端リソグラフィレジストの代表としてのEUVレジストおよびナノインプリントレジストの材料開発を解説する。



【プログラム】

1．私たちを取り巻く環境
　1.1 EUVリソグラフィと生活への適用
　1.2 富士フイルムの電子技術

2. リソグラフィ微細化の歴史
　2.1 「ムーアの法則」を実現するためのパターン縮小
　2.2 EUVリソグラフィの必要性

3. EUVレジスト技術
　3.1 EUVレジストへの挑戦
　3.2 リソグラフィーにおける確率的問題
　3.3 フォトンショットノイズ
　3.4 「KrF/ArF」と「EUV」の違い
　3.5 高EUV吸収材料
　3.6 パターン収縮の歴史

4. ナノインプリントレジスト
　4.1 EUVプロジェクトのロードマップ
　4.2 高NA極端紫外線露光 (High NA EUV)の特徴
　4.3 NIL技術の特徴
　4.4 NIL向けレジスト開発
【質疑応答】

視聴期間/スケジュール

ライブ配信は終了しました。
2024/08/30 16:30 に終了

詳細

受講対象者の職種/職位
本テーマに関心のあるに携わる研究開発者・技術者・事業担当者
受講レベル
初～中級者向け
※受講レベルについて
受講についての補足
※領収書をご希望の方は、ご購入後にDeliveru（デリバル）にログインをして、領収書をダウンロードしてください。

※当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき11,000円で追加でお申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は11,000円となります)。
2名以上の場合は、ファシオ・セミナー事務局までご連絡ください。
質問方法
セミナー担当 webinar@andtech.co.jp
配布資料
なし
※資料がある場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
修了証の発行
なし
※「あり」の場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
提供方法
Zoom配信

講師のプロフィール

講師名
富士フイルム株式会社　 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター　シニアエキスパート　 藤森　亨　氏
経歴
1991年、富士フイルム株式会社に入社、有機合成化学研究所にて、写真フィルム用材料開発
1994年、半導体用材料（フォトレジスト）向け新規材料開発。
2002年、エレクトロニクスマテルアルズ研究所、イメージセンサー用カラーレジスト開発。
2006年、マネージャー
2008年、エレクトロニクスマテリアルズ研究所、フォトレジストの開発、商品化、統括に携わる。
2014年、国家プロジェクトであるEIDEC（EUVL基盤開発センター）に出向、
　　　　 EUV向けフォトレジスト材料の基礎検討に従事、世界のEUV開発のアラインにも従事。
2016年、帰任し、エレクトロニクスマテリアルズ研究所、フォトレジストの開発、商品化、統括に携わる。
2021年、シニアエキスパート