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2025/09/17(水) 10:30 ON AIR
株式会社AndTech
2025年9月17日開催

EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向

EUVレジスト、EUVメタルレジストについて基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向および最新のロードマップにおける位置づけとビジネス動向を解説！
質問OK 初～中級者向け 返金保証
49,500 円(税込)
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6時間0分 詳細へ
2025/09/16 17:00 まで
ivoueHgb
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視聴期間/スケジュール

以下の期間でライブ配信を行ないます。
2025/09/17 10:30 から 2025/09/17 16:30 まで

イベント概要

★2025年9月17日WEBでオンライン開講。Eリソリサーチ　遠藤氏が、【EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向】について解説する講座です。

■注目ポイント

★EUVレジスト、EUVメタルレジストについて基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向および最新のロードマップにおける位置づけとビジネス動向を解説！

カリキュラム/プログラム

【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】

■本セミナーの主題および状況（講師より）

★メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっています。

★微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在最先端の3nmノードの量産工程でEUVが用いられており、今年度の2nmノード以降その役割は益々増大します。

★EUVレジストはこのようなEUVリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けています。

■注目ポイント

★EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向を解説！

★注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについても詳しく解説！

★今後のEUVレジストの技術展望、市場動向とは！？

講座担当：牛田孝平

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫


【時間】 10:30-16:30

【講師】Eリソリサーチ　代表　遠藤　政孝　氏

【講演主旨】

　メモリー、マイクロプロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い、益々大きくなっている。微細加工を支えるリソグラフィ技術は現在最先端の3nmノードの量産工程でEUVが用いられており、今年度の2nmノード以降その役割は益々増大する。EUVレジストはこのようなEUVリソグラフィ技術の変革に対応して進展し続けている。
　本講演では、最新のロードマップとEUVリソグラフィの概要を紹介した後、EUVレジストの基礎と要求特性、課題と対策、最新技術動向を解説する。注目されているEUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセスについても詳しく述べる。最後に今後のEUVレジストの技術展望、市場動向についてまとめる。


【プログラム】

1.ロードマップ
　1.1リソグラフィ技術、レジスト材料への要求特性
　1.2微細化に対応するリソグラフィ技術の選択肢
　1.3最先端デバイスの動向

2.EUVリソグラフィの概要
　2.1露光装置
　2.2光源
　2.3マスク

3.EUVレジストの基礎
　3.1EUVレジストの設計指針
　3.2化学増幅型EUVレジストの反応機構
　3.3EUVレジストプロセス

4.EUVレジストの要求特性
　4.1化学増幅型EUVレジスト用ポリマー
　4.2化学増幅型EUVレジスト用酸発生剤・クエンチャー

5.EUVレジストの課題と対策
　5.1感度/解像度/ラフネスのトレードオフ
　5.2ランダム欠陥（Stochastic Effects）
　5.3EUVレジストの開発動向
　　5.3.1ポリマーバウンド酸発生剤を用いる化学増幅型レジスト
　　5.3.2ネガレジストプロセス

6. EUVメタルレジスト
　6.1 EUVメタルレジスト用材料
　6.2 EUVメタルレジストの反応機構
　6.3 EUVメタルレジストの性能と開発動向

7.EUVメタルドライレジストプロセス
　7.1EUVメタルドライレジストプロセス用材料
　7.2EUVメタルドライレジストプロセスの反応機構
　7.3EUVメタルドライレジストプロセスの性能と開発動向

8. EUVレジストの技術展望、市場動向

【質疑応答】


【キーワード】

リソグラフィ、レジスト、EUVリソグラフィ、EUVレジスト、EUVメタルレジスト、EUVメタルドライレジストプロセス、ロードマップ


【講演のポイント】

EUVレジスト、EUVメタルレジストについて、基礎から要求特性、課題と対策、最新技術動向まで把握できます。最新のロードマップにおける位置づけ、ビジネス動向を確認できます。


【習得できる知識】

１）EUVレジスト、EUVメタルレジストの基礎
２）EUVレジスト、EUVメタルレジストの要求特性、課題と対策
３）EUVレジスト、EUVメタルレジストの最新技術動向
４）EUVレジスト、EUVメタルレジストのビジネス動向

詳細

受講対象者の職種/職位
本テーマに関心のあるに携わる研究開発者・技術者・事業担当者
受講レベル
初～中級者向け
※受講レベルについて
受講についての補足
※領収書をご希望の方は、ご購入後にDeliveru（デリバル）にログインをして、領収書をダウンロードしてください。

※当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加でお申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。
2名以上の場合は、ファシオ・セミナー事務局までご連絡ください。
質問方法
セミナー担当 webinar@andtech.co.jp
配布資料
なし
※資料がある場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
修了証の発行
なし
※「あり」の場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
提供方法
Zoom配信

講師のプロフィール

講師名
Eリソリサーチ　 代表　 遠藤　政孝　氏
経歴
1981.3 京都大学工学部石油化学科卒業
1983.3 京都大学大学院工学研究科石油化学専攻修士課程修了
1992.9 大阪大学大学院工学研究科工学博士号取得
1983.4 松下電器産業（株）入社。以来同社中央研究所、半導体研究センター、プロセス開発センター、パナソニック（株）半導体社プロセス開発センターにて、紫外線（436nm、365nm）、電子線（EB）、KrFエキシマレーザ（248nm）、ArFエキシマレーザ（193nm）、ArF液浸を用いた半導体リソグラフィ、レジスト、レジストプロセスの開発に従事。
2009.9 大阪大学産業科学研究所にて、極端紫外線（EUV・13.5nm）を用いたレジスト、レジストプロセスの研究開発に従事。
2024 Eリソリサーチを設立し、リソグラフィ、レジスト、先端パッケージ技術のコンサルティング、講演、調査活動等を実施。
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