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2025/06/20(金) 13:00 ON AIR
株式会社AndTech
2025年6月20日開催

プラズマの特性と半導体製造への応用　～成膜とエッチング入門～

半導体デバイスを作製する上で必須のツールであるプラズマの基礎、物理的な考え方、特徴を解説します。前半では薄膜堆積やドライエッチングに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の特徴や生成機構について、後半ではそれらを踏まえ、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて解説します。
質問OK 初～中級者向け 返金保証
38,500 円(税込)
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2025/06/19 17:00 まで
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視聴期間/スケジュール

以下の期間でライブ配信を行ないます。
2025/06/20 13:00 から 2025/06/20 16:00 まで

イベント概要

★2025年6月20日WEBオンライン開講。東京電機大学大学院  市川 幸美 氏から、プラズマの特性と半導体製造への応用 ～成膜とエッチング入門～ について解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★半導体デバイスを作製する上で必須のツールであるプラズマの基礎、物理的な考え方、特徴を解説します。前半では薄膜堆積やドライエッチングに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の特徴や生成機構について、後半ではそれらを踏まえ、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて解説します。

カリキュラム/プログラム

【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】

■本セミナーの主題および状況

★半導体デバイスを作製する上で必須のツールであるプラズマの基礎、物理的な考え方、特徴を解説します。前半では薄膜堆積やドライエッチングに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の特徴や生成機構について、後半ではそれらを踏まえ、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて解説します。


■注目ポイント

★プラズマの基礎について学習、習得できる！

★プラズマCVDの特徴と原理（アモルファスSi薄膜を中心に）等について学習、習得できる！

★プラズマエッチングの特徴と原理（等方性、異方性）等について学習、習得できる！


講座担当：齋藤　順

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫


【時間】 13:00-16:00

【講師】東京電機大学大学院　非常勤講師　市川　幸美　氏

【講演主旨】

プラズマはLSIをはじめとした半導体デバイスを作製する上で、必須のツールになっています。しかし、半導体プロセスに用いられるプラズマの原理や基礎について系統的に学ぶ機会は少ないと思います。現在の応用だけでなく、今後道具としてさらにプラズマを利用していくためには、その物理的な考え方、特徴の基礎を理解することが不可欠になります。そこで、本セミナーでは、まず前半で薄膜堆積やドライエッチングに用いられるプラズマ（非平衡プラズマと呼ばれる）の特徴や生成機構について解説します。後半ではそれらを踏まえ、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法などについて説明します。



【プログラム】

1．プラズマの基礎
　　1-1.　プラズマ中の衝突現象とその定量的な取り扱い
　　1-2.　衝突反応の種類と反応速度定数の考え方
　　1-3.　Boltzmann方程式
　　1-4.　Boltzmann方程式から得られるプラズマの基礎方程式（拡散方程式、連続の式など）
　　1-5.　プラズマの生成（直流放電プラズマ）
　　1-6.　プラズマの生成（容量性結合RF放電プラズマ）
　　1-7.　プラズマの生成（誘導性結合RF放電プラズマ）
　　1-8.　プラズマの生成（大気圧低温プラズマ）

2．プラズマCVD
　　2-1.　プラズマCVDの特徴と原理（アモルファスSi薄膜を中心に）
　　2-2.　代表的なプラズマCVD装置
　　2-3.　製膜パラメータの考え方
　　2-4.　アモルファスSi堆積条件と高品質化

3．プラズマエッチング
　　3-1.　プラズマエッチングの特徴と原理（等方性、異方性）
　　3-2.　代表的なエッチング装置
　　3-3.　エッチングダメージ
　　3-4.　終点検出の原理

質疑応答


【キーワード】

プラズマ、半導体、プラズマCVD、薄膜堆積、ドライエッチング


【講演の最大のPRポイント】

本講演では半導体プロセスに用いられる、いわゆる非平衡プラズマの特性を理解していただくため、これまでプラズマそのものにあまり馴染みのない技術者の方々を対象に、その原理を基礎から解説します。本講演を受講することで、半導体製造におけるプラズマプロセスにおいて、プラズマの中で何が起こっているのかを理解できるようになります。


【習得できる知識】

・半導体プロセスに用いられるプラズマの原理と特徴
・成膜に用いられるプラズマCVDの原理や基本的な装置構造
・ドライエッチングの原理や基本的な装置構造

詳細

受講対象者の職種/職位
本テーマに関心のあるに携わる研究開発者・技術者・事業担当者
受講レベル
初～中級者向け
※受講レベルについて
受講についての補足
※領収書をご希望の方は、ご購入後にDeliveru（デリバル）にログインをして、領収書をダウンロードしてください。

※当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加でお申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。
2名以上の場合は、ファシオ・セミナー事務局までご連絡ください。
質問方法
セミナー担当 webinar@andtech.co.jp
配布資料
なし
※資料がある場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
修了証の発行
なし
※「あり」の場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
提供方法
Zoom配信

講師のプロフィール

講師名
東京電機大学大学院　 非常勤講師　 市川　幸美　氏
経歴
1980年　武蔵工業大学大学院博士課程修了(工学博士)（プラズマ工学専攻）
1980年　カナダYork Univ.とMcMaster Univ.でポスドク
1982年　アメリカWright State Univ. Brehm Res. Lab.研究員
1983年　富士電機入社。　総合研究所にてアモルファスSi太陽電池の研究開発
2000年　半導体事業部にてパワー半導体デバイスのプロセス開発
2007年　富士電機アドバンストテクノロジー(株)取締役、兼）電子デバイス技術センター長としてワイドギャップ半導体デバイス（SiC,GaN）、太陽電池等の研究開発を統括
2013年　文科省）革新的エネルギー研究開発拠点形成事業（Future-PV Innovation)にて研究統括補佐としてナノワイヤー太陽電池の研究開発
2017年～2022年　東京都市大学総合研究所客員教授
現在　東京電機大学大学院　非常勤講師
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