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https://support.deliveru.jp/faq/docs/309

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2025/03/26(水) 10:30 ON AIR
株式会社AndTech
2025年3月26日開催

半導体材料のウェットエッチング加工の基礎と持続的なウェットエッチングプロセス実現への取り組み ～単結晶シリコンの加工を主に，次世代半導体材料のウェットエッチング加工動向を含めて～

半導体材料の代表格である単結晶シリコンのウェットエッチング加工特性とそのメカニズムについて解説！
質問OK 初～中級者向け 返金保証
49,500 円(税込)
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6時間0分 詳細へ
2025/03/25 17:00 まで
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視聴期間/スケジュール

以下の期間でライブ配信を行ないます。
2025/03/26 10:30 から 2025/03/26 16:30 まで

イベント概要

★2025年3月26日WEBでオンライン開講。愛知工業大学　田中氏が半導体材料のウェットエッチング加工の基礎と持続的なウェットエッチングプロセス実現への取り組み～単結晶シリコンの加工を主に，次世代半導体材料のウェットエッチング加工動向を含めて～について解説する講座です。

■注目ポイント

★半導体材料の代表格である単結晶シリコンのウェットエッチング加工特性とそのメカニズムについて解説！

カリキュラム/プログラム

【本セミナーの主題および状況・本講座の注目ポイント】

■本セミナーの主題および状況

★ウェットエッチング加工は、表面に加工歪が残らないことや化学的・結晶学的な作用に基づく異方性加工が行えるなど、機械的・物理的加工と異なるメリットを持っております。

★特に電子・半導体・MEMS加工分野では必要不可欠な加工であり、今後も基盤技術の一つとして持続可能性のあるプロセスにすることが求められます。



■注目ポイント

★単結晶シリコンを主にウェットエッチングプロセスの開発、改善、不具合対応などを20年程度実施してきた講師による講演！

★ウェットエッチング方法、エッチング液、エッチング機構、エッチング方式を選定するときに必要な実験技術とは！？

★次世代半導体材料のウェットエッチング動向や持続的なエッチングプロセスへ取り組みを紹介！

講座担当：牛田孝平

≪こちらの講座は、WEB上での開催のオンライン講座になります≫


【時間】 10:30-16:30

【講師】愛知工業大学　工学部 機械学科　田中　浩　氏

【講演主旨】

　ウェットエッチング加工は、表面に加工歪が残らないことや化学的・結晶学的な作用に基づく異方性加工が行えるなど、機械的・物理的加工と異なるメリットを持ち、特に電子・半導体・MEMS加工分野では必要不可欠な加工である。今後も基盤技術の一つとして持続可能性のあるプロセスにしなければならない。
　本講演では半導体プロセスで使用される金属薄膜も含めたウェットエッチングの基礎及びエッチング加工について説明する。また、半導体として基本となる単結晶シリコンに対して、エッチング加工特性とそのメカニズムを述べる。加えて、次世代半導体のウェットエッチング加工や持続的なエッチングプロセス（エッチングプロセスのグリーン化）への取り組みについて説明を行う。



【プログラム】

１．ウェットエッチングの基礎
　1.1 ウェットエッチング加工が使用されている分野
　1.2 ウェットエッチング加工の方法
　1.3 ウェットエッチングのマクロ的な特徴
　　（等方性と異方性）
　1.4 ウェットエッチングのミクロ的な特徴
　　（エッチング機構）

２．単結晶シリコンのウェットエッチング加工
　2.1 酸系エッチング液による等方性エッチング
　2.2 アルカリエッチング液による異方性エッチング
　　2.2.1 アルカリ水溶液によるエッチング加工特性
　　2.2.2 アルカリ水溶液中でのエッチングメカニズム
　　2.2.3 エッチング加工特性に及ぼす各種要因
　　　（液中金属不純物、電圧、界面活性剤など）
　　2.2.4 エッチングマスクパターンの選択
　　2.2.5 エッチング特性を把握するための実験方法

３．次世代半導体材料のウェットエッチング加工
　3.1 次世代半導体材料に使用されているエッチング方法
　　（光電気化学エッチング、金属アシストエッチングなど）
　3.2 SiC、GaN、Ga2O3材料のエッチング加工事例

４．持続的なウェットエッチングプロセス
　（アルカリ水溶液による単結晶シリコンエッチングプロセスでの事例）
　4.1 エッチング液の低濃度化
　4.2 液滴エッチングプロセス

【質疑応答】



【キーワード】

ウェットエッチング，エッチング機構，シリコン，グリーンプロセス



【講演のポイント】

講演者は，単結晶シリコンを主に，ウェットエッチングプロセスの開発，改善，不具合対応などを20年程度実施してきた．常に現地・現物にて現象を把握し，対策を講じてきたことから，具体的な事例経験が豊富であり，専門家間での技術コミュニケーションが取りやすいと考える．



【習得できる知識】

ウェットエッチング方法、エッチング液、およびエッチング機構についての知識が得られる．また、エッチング方式を選定するときに必要な実験技術についても把握できる．
半導体材料の代表格である単結晶シリコンのウェットエッチング加工特性とそのメカニズムについての知識が身につく．加えて、次世代半導体材料のウェットエッチング動向や持続的なエッチングプロセスへ取り組みを把握できる．

詳細

受講対象者の職種/職位
本テーマに関心のあるに携わる研究開発者・技術者・事業担当者
受講レベル
初～中級者向け
※受講レベルについて
受講についての補足
※領収書をご希望の方は、ご購入後にDeliveru（デリバル）にログインをして、領収書をダウンロードしてください。

※当講座では、同一部署の申込者様からのご紹介があれば、何名でもお1人につき16,500円で追加でお申し込みいただけます (申込者様は正規料金、お2人目以降は16,500円となります)。
2名以上の場合は、ファシオ・セミナー事務局までご連絡ください。
質問方法
セミナー担当 webinar@andtech.co.jp
配布資料
なし
※資料がある場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
修了証の発行
なし
※「あり」の場合、動画の視聴ページからダウンロードができます。
※視聴期間の終了後はダウンロードできなくなります。
提供方法
Zoom配信

講師のプロフィール

講師名
愛知工業大学　 工学部 機械学科　 田中　浩　氏
経歴
2017年04月
愛知工業大学 工学部 機械学科 教授
2010年05月
大学，自治体 研究員
2013年04月
鶴岡高専 機械工学科 教授
2011年04月
鶴岡高専 機械工学科 准教授
1990年04月
輸送用機器メーカ
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